Công nghệ xi mạ PVD là công nghệ (lắng đọng hơi vật lý) là các phương pháp xi mạ lắng đọng vật liệu trong môi trường chân không và được sử dụng để sản xuất màng mỏng và lớp phủ. PVD là một quá trình trong đó vật liệu chuyển từ thể rắn sang thể hơi và sau đó kết hợp trở lại thể rắn dưới dạng một lớp phim móng ngưng tụ trên bề mặt mẫu. PVD được sử dụng trong sản xuất các mặt hàng phủ một lớp móng vật liệu cho các chức năng cơ học, quang học, hóa học hoặc trong điện tử.
trong quá trình xi mạ chân không pvd, một dòng điện cường độ cao hình thành trên bề mặt vật liệu nguồn làm bay hơi nhanh chóng các ion kim loại. Những ion kim loại sẽ di chuyển đến bề mặt xi trong môi trường chân không và hòa trộn với các loại khí phản ứng để hình thành một lớp xi mỏng trên bề mặt mẫu. Quá trình ion hóa ảnh hưởng đáng kể lên tính chất màng xi và độ bám dính